时间:2019-10-29 11:00 来源:365bet足球现金网 阅读次数:
全部展开 间接带隙(Si,Ge等)半导体材料是导空间的最小值(导带的背景),是k空间中不同位置的整个带的最大值。 半满能带的形成不仅需要能量吸收,还需要动量。 间接带隙半导体材料在空间k的各个位置具有最小的导带(在导带以下)和最大的最大带。 处于状态k的电子的动量为(h / 2pi)k,k不同,矩不同,并且需要将动量从一种状态更改为另一种状态。 因此,间接禁带半导体电子不仅吸收光子,而且还与晶体网络交换能量,从而导致间接跃迁。 电子K波矢量通过适当的声子发射或吸收而改变。 GaP是一种间接禁带半导体,即使通过间接跃迁也可以发光。 然而,当将GaP和GaAs混合以形成GaAs1-xPx晶体时,可以通过调节x的值(0 <x <1)来改变混合晶体的能带结构,并且CaAs1-xPx是直接的禁带。 这与半导体能带结构(EK比)有关。 所谓的EK关系是能量与动量之间的关系。 自由空间中的粒子动量越大,能量越大。 然而,在晶体中,由于势化的网状周期性场的作用,电子能量的动量之间的关系变得更加复杂。 对应于导带的下部的力矩K不必是对应于价带的上部的力矩K,该价带是禁带中的间接半导体。 由于导带的底部和价带的顶部不在同一脉冲点,因此在该半导体中发生了电子吸收的光子从价带向导带的跃迁。它不仅受到节能的限制,还受到瞬时存储的限制。 换句话说,不仅光子能量大于带宽,而且相应的电子声子相互作用也会改变电子动量。 此要求更难以实现。 因此,诸如硅的间接禁带半导体不适用于光学器件。 相反,在直接禁止的半导体中,当电子进入导带时,无需更改动量。 瓦伦西亚和锗硅带Ev的上部位于布里渊区的中心,Ec导带的下部位于100方向上简单布里渊区的边界。以及布里渊区和布里渊区之间的边界。 在85倍处,对应于价带背景的波基不同。 这种类型的半导体称为间接带半导体禁止。 直接带的半导体材料是在空间k中的相同位置处的导带的最小值(导带以下)和价带的最大值。 电子需要通过导带以产生仅需要吸收能量的导电电子和空穴(形成半满带)。 ![]() |
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